下游市場的快速發展促進了原子層沉積設備的迅速發展。

薄膜沉積是指將特定材料沉積在基礎上形成薄膜，具有光學、電學等特殊性能。根據不同的工藝原理，可分為物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)設備。

原子層沉積設備是一種重要的膜沉積設備，由于ALD技術的表面化學反應自限，具有優良的三維共形性、大面積膜均勻性和準確的膜厚控制，廣泛應用于不同環境下的膜沉積、光伏、半導體、柔性電子、MEMS、催化、光學設備等先進領域具有良好的工業化前景。

近年來，我國原子層沉積設備下游產業發展迅速，推動了原子層沉積設備市場的快速發展。

在光伏領域，我國光伏產業在政策和人力資源的大力支持下發展迅速。

在半導體領域，中國正處于新一代智能手機、物聯網、人工智能、5G通信等行業快速崛起的過程中，已成為世界上重要的半導體應用和消費市場之一。

在新顯示領域，中國的主流顯示技術是LCD和OLED。隨著行業的不斷升級，柔性電子、Mini/MicroLED等新顯示技術的市場規模將迅速提升。